Ad oggi la tecnologia di deposito fisico dei metalli (cromo, nichel e altri), via PVD, è sintetizzabile come segue: il metallo (target) viene riscaldato e bombardato con molecole “eccitate” di gas argo, che erodono il metallo, formando vapori di plasma metallico, che condensano sul supporto già preparato con un primer di adesione (in genere con vernice trasparente UV) e preparato a riceverlo su ogni parte del manufatto metallico (tempo necessario: una ventina di minuti). Grazie a Massimiliano Bestetti, professore-ricercatore del Politecnico di Milano, in collaborazione con l’Università di Tomsk (Russia), le ricerche dedicate a trovare il metodo più idoneo a migliorare ulteriormente i tempi di deposito del cromo, hanno dato come risultato una innovativa tecnologia, che utilizza il target metallico fuso. In questo modo deposita 45-80 nanometri al secondo rispetto agli 0,1-10 nanometri/s della tecnologia attuale, e crea una cromatura fisica di notevole resistenza alla corrosione oltre a una completa metallizzazione anche di pezzi plastici: il tempo di deposito completo dello strato di metallo sul manufatto si riduce dagli attuali 20 minuti a 2-3 minuti: un passo avanti non indifferente per la tecnologia di cromatura fisica.
Maggiori notizie al riguardo e una verifica della tecnologia in funzionamento possono essere richieste inviando una mail a massimiliano.bestetti@polimi.it.
